液体H2Oを用いた低電圧DCアークの限流遮断におけるアーク抵抗上昇機構の検討

カテゴリ：研究会(論文単位)

論文No：EPP25097,SA25072,SP25014

グループ名：【A】基礎・材料・共通部門 放電・プラズマ・パルスパワー/【B】電力・エネルギー部門 静止器/【B】電力・エネルギー部門 開閉保護合同研究会

発行日：2025/8/1

タイトル(英語)：Study on arc resistance rising mechanism in low voltage DC arc current-limiting interruption with liquid H2O

著者名：野々山 颯太(名古屋大学),兒玉 直人(名古屋大学),横水 康伸(名古屋大学),岩田 幹正(名古屋大学),中村 綾花(名古屋大学),稲田 優貴(埼玉大学)

著者名(英語)： Sota Nonoyama(Department of Electrical Engineering, Graduate School of Engineering, Nagoya University),Naoto Kodama(Department of Electrical Engineering, Graduate School of Engineering, Nagoya University),Yasunobu Yokomizu(Department of Electrical Engineering, Graduate School of Engineering, Nagoya University),Mikimasa Iwata(Institute of Materials and Systems for Sustainability, Nagoya University),Ayaka Nakamura(Institute of Materials and Systems for Sustainability, Nagoya University),Yuki Inada(Graduate School of Science and Engineering, Saitama University)

キーワード：直流ヒューズ,直流遮断,直流アーク,アーク消弧媒体,水,珪砂,DC fuse,DC interruption,DC arc,Arc quenching medium,Water,Silica sand

要約(日本語)：本報では，筆者らはDC限流ヒューズにおいて珪砂に代わる新しいアーク消弧媒体として液体H2Oを選定した。DCアーク遮断実験の結果，液体H2Oを消弧媒体としたときの方が珪砂を消弧媒体としたときよりもDCアークが速く遮断された。速いアーク抵抗上昇はH2O/Cu混合蒸気のより高い電気抵抗率によるものであると考えられる。

要約(英語)：In this paper, we selected liquid H2O as the new arc quenching medium to replace silica sand in DC current-limiting fuses. Experiments showed that DC arc was interrupted more quickly with H2O than with silica sand. The rapid rise of arc resistance is attributed to the higher electrical resistivity of H2O/Cu vapor mixture.

本誌：2025年8月4日-2025年8月5日放電・プラズマ・パルスパワー/静止器/開閉保護合同研究会-2

本誌掲載ページ：7-12p

原稿種別：日本語

PDFファイルサイズ：5,255Kバイト