紫外Nd:YAGレーザ照射によるSi太陽電池表面のナノドット構造の高密度化

カテゴリ：研究会(論文単位)

論文No：LAV25005

グループ名：【A】基礎・材料・共通部門 光応用・視覚研究会

発行日：2025/8/26

タイトル(英語)：Densification of nanodot structures on surface of Si solar cells irradiated by ultraviolet Nd:YAG laser pulses

著者名：大歳 丈翔(大阪産業大学),田中 利玖(大阪産業大学),橋田 昌樹(東海大学/京都大学),坂上 仁志(核融合科学研究所/東海大学),時田 茂樹(京都大学),草場 光博(大阪産業大学)

著者名(英語)： Taketo Otoshi(Osaka Sangyo University ),Riku Tanaka(Osaka Sangyo University),Masaki Hashida(Tokai University/Kyoto University),Hitoshi Sakagami(National Institute for Fusion Science/Tokai University),Shigeki Tokita(Kyoto University),Mitsuhiro Kusaba(Osaka Sangyo University)

キーワード：シリコン太陽電池,ナノドット構造,高密度化,Ｎｄ：ＹＡＧレーザ,４倍高調波,光・レーザ量子加工,silicon solar cells,nanodot structures,densification,Nd:YAG laser,fourth harmonics,photon･laser quantum processing

要約(日本語)：レーザ波長266 nmの照射によるナノドット密度は、248 nmの場合に比べて約13倍になり、微細・高密度化に成功した。レーザ照射前後で、ナノドット構造が一部融解している部分があるが圧縮応力が付与されていること、また、結晶性の変化量はレーザ照射前後で変化量がほぼ変わらず、照射前の結晶構造が保持されていると推察される。

要約(英語)：With an irradiating of 266nm Nd:YAG laser, the density of nanodot structure was 372 dots/μm^2 which interspace was one fifth of laser wavelength. We found that the nanodot density for 266 nm irradiation was 13 times higher than that for 248 nm irradiation.

本誌：2025年8月29日光応用・視覚研究会

本誌掲載ページ：1-4p

原稿種別：日本語

PDFファイルサイズ：714Kバイト