水中シリコン太陽電池表面に形成されるナノドット構造の最適レーザー照射条件の模索

カテゴリ：研究会(論文単位)

論文No：LAV25007

グループ名：【A】基礎・材料・共通部門 光応用・視覚研究会

発行日：2025/8/26

タイトル(英語)：Search for appropriate laser irradiated condition of nanodot structures formation on silicon solar cell surface in water

著者名：牛尾 圭佑(東海大学),岩森 暁(東海大学),坂上 仁志(核融合科学研究所/東海大学),草場 光博(大阪産業大学),橋田 昌樹(東海大学/京都大学)

著者名(英語)： Keisuke Ushio(Tokai University),Satoru Iwamori(Tokai University),Hitoshi Sakagami(NIFS, Tokai University),Mitsuhiro Kusaba(Osala Sangyo University),Masaki Hashida(Tokai University, Kyoto University)

キーワード：水中照射,　ナノドット構造,　単結晶シリコン太陽電池,　融解閾値,underwater irradiation, nanodot structure,single-crystal silicon solar cell, melting threshold

要約(日本語)：266nmのナノ秒レーザーを水中で照射することでシリコン太陽電池表面にナノドット構造の形成する研究に取り組んだ。融解閾値以下のフルエンスで200パルス照射するこで融解することなく大きさ103nmのナノドット構造が密度38個/μｍ²形成されることが分かった.

要約(英語)：Nanodot structures formation on silicon solar cell surface irradiated with 266 nm nano second laser in water was investigated. It was found that the nanodot structures of 103nm size and 38 dot/um2 density were successfully formated with irradiating 200 laser pulses below melting threshold fluence.

本誌：2025年8月29日光応用・視覚研究会

本誌掲載ページ：9-12p

原稿種別：日本語

PDFファイルサイズ：673Kバイト