希硫酸水溶液中のプラズマスルホン化：ラジカル生成経路の解明

カテゴリ：研究会(論文単位)

論文No：FTE25021

グループ名：【B】電力・エネルギー部門 新エネルギ－・環境研究会

発行日：2025/9/15

タイトル(英語)：Plasma sulfonation in dilute sulfuric acid solution: Understanding radical generation pathways

著者名：Siqi Deng(東北大学),佐々木 渉太(東北大学),金子 俊郎(東北大学),竹内 希(東京科学大学)

著者名(英語)： Siqi Deng(Tohoku Univiersity),Shota Sasaki(Tohoku Univiersity),Toshiro Kaneko(Tohoku Univiersity),Nozomi Takeuchi(Institute of Science Tokyo)

キーワード：大気圧プラズマ,プラズマ材料改質,活性種,Atmospheric-pressure plasma,Plasma carbon treatment,Reactive species

要約(日本語)：本研究では、大気圧直流プラズマを用いて炭素材料を希硫酸中でスルホン化し、その液相反応機構を検討した。特に、過硫酸ナトリウムを添加して硫酸ラジカル（SO₄⁻•）の寄与を明確化し、処理時間および極性による影響を評価した。また、広帯域光源と高S/Nカメラを用いたその場吸収計測により、界面でのラジカル分布を可視化した。本研究は、炭素の機能化と触媒設計の新指針を示すものである。

要約(英語)：We investigated plasma-driven sulfonation of carbon in dilute sulfuric acid, focusing on sulfate radical generation. Sodium persulfate was introduced to confirm radical involvement. An in-situ diagnostic system visualized radical distribution, offering insights into plasma–liquid interface reactions and efficient catalyst design.

本誌：2025年9月18日-2025年9月19日新エネルギ－・環境研究会

本誌掲載ページ：45-46p

原稿種別：英語

PDFファイルサイズ：1,685Kバイト