Inside Heaterを搭載したバッチ式半導体熱処理成膜装置のHeater・Cooler統合による高速高精度温度制御法の実装と検証

カテゴリ：研究会(論文単位)

論文No：MEC25003

グループ名：【D】産業応用部門 メカトロニクス制御研究会

発行日：2025/9/23

タイトル(英語)：Implementation and Evaluation of Fast and Precise Temperature Control for a Semiconductor Vertical Furnace with a Inside Heater by Heater-Cooler Integration

著者名：西岡 巧真(東京大学),ブディオノ クリスチャン　ミレニュー(東京大学),大西 亘(東京大学),古関 隆章(東京大学),平田 輝(東京エレクトロン テクノロジーソリューションズ),山口 達也(東京エレクトロン テクノロジーソリューションズ)

著者名(英語)： Koma Nishioka(The University of Tokyo),Christian Milleneuve Budiono(The University of Tokyo),Wataru Ohnishi(The University of Tokyo),Takafumi Koseki(The University of Tokyo),Akira Hirata(Tokyo Electron Technology Solutions Ltd.),Tatsuya Yamaguchi(Tokyo Electron Technology Solutions Ltd.)

キーワード：バッチ式半導体熱処理成膜装置,化学気相成長,フィードバック制御,システム同定,温度制御,Semiconductor vertical furnace,Chemical vapor deposition,Feedback control,System identification,Temperature control

要約(日本語)：半導体製造分野においては，高速高精度な制御技術に対する要求が年々高まっている。本稿では，新型アクチュエータ「Inside Heater」が搭載されたバッチ式半導体熱処理成膜装置に対し，Inside HeaterとCoolerを統合する制御系を提案する。提案手法により，外乱除去性能に優れ，オーバーシュートの少ない高帯域フィードバック制御が実現された。

要約(英語)：The demand for faster and more precise control technologies in semiconductor manufacturing continues to grow. This study proposes a control system that integrates the Inside Heater and Cooler for a batch-type semiconductor vertical furnace, which has a novel actuator called "Inside Heater". This method enabled the realization of a high-bandwidth feedback controller with improved disturbance rejection and overshoot reduction.

本誌：2025年9月26日メカトロニクス制御研究会

本誌掲載ページ：13-18p

原稿種別：日本語

PDFファイルサイズ：1,750Kバイト