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単一集積化したパワーGaN HEMTの誤点弧評価

単一集積化したパワーGaN HEMTの誤点弧評価

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カテゴリ:研究会(論文単位)

論文No:EDD25072,SPC25204

グループ名:【C】電子・情報・システム部門 電子デバイス/【D】産業応用部門 半導体電力変換合同研究会

発行日:2025/10/20

タイトル(英語):Evaluation of False Turn-on in Monolithically-integrated Power GaN HEMTs

著者名:青木 悠真(岡山県立大学),小林 和淑(京都工芸繊維大学),新谷 道広(京都工芸繊維大学),高山 創(京都工芸繊維大学),鈴木 恭宜(岡山県立大学),伊藤 信之(岡山県立大学),小椋 清孝(岡山県立大学),古田 潤(岡山県立大学)

著者名(英語): Yuma Aoki(Okayama Prefectural University),Kazutoshi Kobayashi(Kyoto Institute of Technology),Michihiro Shintani(Kyoto Institute of Technology),Hajime Takayama(Kyoto Institute of Technology),Yasunori Suzuki(Okayama Prefectural University),Nobuyuki Itoh(Okayama Prefectural University),Kiyotaka Komoku(Okayama Prefectural University),Jun Furuta(Okayama Prefectural University)

キーワード:GaN HEMT,ゲートドライバ,集積化,誤点弧,GaN HEMT,Gate Driver,Integration,False Turn-on

要約(日本語):GaN HEMTは横型デバイスであるため、複数のHEMTを集積化することができる。集積化することで寄生インダクタンスを抑制でき、ゲートドライバによるゲート電圧の制御が容易になる。それによってGaN HEMTの問題である誤点弧の耐性を高めることができる。本発表では無負荷ハーフブリッジ回路を使用し、回路全体の消費電力の増加を測定することで集積化したGaN HEMTの誤点弧耐性を評価した結果を報告する。

要約(英語):A monolithically-integrated GaN HEMTs can reduce parasitic inductance, thereby improving the immunity to false turn-on. In this presentation, we report the results of an evaluation of the false turn-on mitigation of integrated GaN HEMTs by using a no-load half-bridge circuit and measuring the increase in power consumption of the entire circuit.

本誌:2025年10月23日-2025年10月24日電子デバイス/半導体電力変換合同研究会-1

本誌掲載ページ:87-92p

原稿種別:日本語

PDFファイルサイズ:1,393Kバイト

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