2025年11月25日-2025年11月26日電子材料研究会

カテゴリ：研究会(冊子単位)

グループ名：【C】電子・情報・システム部門 電子材料研究会

発行日：2025/11/22

タイトル(英語)：25.Nov.2025-26.Nov.2025 Technical Meeting on Electronic Materials

キーワード：研究会テーマ:マルチ機能デバイス実現に向けた材料、プロセス・評価技術の開拓

要約(日本語)：強誘電性の向上へ向けたHfO2系強誘電体薄膜と電極の界面設計の重要性:女屋 崇(物質・材料研究機構) Hf0.5Zr0.5O2をゲート絶縁膜に用いたグラフェンFETの作製と物性:高瀬 寛士(大阪工業大学),菊池 聖人(大阪工業大学),武本 凌河(大阪工業大学),原田 義之(大阪工業大学),藤元 章(大阪工業大学),小池 一歩(大阪工業大学),廣芝 伸哉(大阪工業大学) 低消費電力フォトトランジスタ向上のためのミストCVD法による高誘電率Al1-xTixOy膜の表面改質:クドゥス アブドゥル(立命館グローバル・イノベーション研究機構),田村 天琉(立命館大学理工学研究科),上野 啓司(埼玉大学理工学研究科), 白井 肇(埼玉大学理工学研究科),毛利 真一郎(立命館大学理工学研究科) 直方晶MgGeO3の配向膜成長と光学バンドギャップ評価:古川 加惟(立教大学),田邉 一郎(立教大学),藤原 宏平(立教大学) 極薄初期層の挿入によるカゴメ格子合金CoSn薄膜の高品質化:井川 僚哉(立教大学),藤原 宏平(立教大学) プラズマ微細加工技術を用いた血中がん細胞捕捉フィルターの開発:木原 直人(AGC) 二次元半導体におけるドーピングの基礎的理解と技術展開:金橋 魁利(東京大学),西村 知紀(東京大学),長汐 晃輔(東京大学) TaS2上にオゾン酸化形成したTaOx膜をゲート誘電体とするMoS2 FETにおける低電圧動作:佐橋 悠太朗(関西大学),稲田 貢(関西大学),上野 啓司(埼玉大学),山本 真人(関西大学) 液相プロセスによって形成したhigh-k TaOx薄膜の特性評価と二次元半導体ゲート絶縁膜応用:能見 彩音(関西大学),稲田 貢(関西大学),上野 啓司(埼玉大学),山本 真人(関西大学) 局所オゾン酸化による黒リン面内ホモ接合の形成:長田 庄平(関西大学),稲田 貢(関西大学),佐藤 伸吾(関西大学),山本 真人(関西大学) ｐ型透明半導体の可能性を持つ硫酸スズ薄膜の伝導機構調査:守屋 賢人(工学院大学),永縄 創吉(工学院大学),工藤 幸寛(工学院大学),高橋 泰樹(工学院大学),山口 智広(工学院大学),相川 慎也(工学院大学) In2O3系MSIMダイオードの製作と評価:矢崎 結也(工学院大学),石井 和歩(工学院大学),辛 佳和(工学院大学),石上 柊佑(工学院大学),松藤 由磨(工学院大学),相川 慎也(工学院大学) Si基板結晶方位に着目したSnOスパッタ成膜:辛 佳和(工学院大学),石井 和歩(工学院大学),相川 慎也(工学院大学) 溶液塗布熱分解法による(GaIn)2O3薄膜の作製とソーラーブラインドUVセンサーへの応用:堀部 彰人(大阪工業大学),山崎 伊織(大阪工業大学),中野 有貴(大阪工業大学),鶴山 大翔(大阪工業大学),廣芝 伸哉(大阪工業大学),小山 政俊(大阪工業大学),小池 一歩(大阪工業大学) グラフェン自己組立て技術を用いた培養ニューロンの操作と電気活動計測:酒井 洸児(NTT),後藤 東一郎(NTT),水野 陽介(NTT),大友 泰輝(NTT),山田 康博(NTT),稲垣 卓弘(NTT),稲葉 謙介(NTT),田中 あや(NTT) ナノ多孔質超薄膜–高分子電解質界面を利用したイオン整流素子:石崎 裕也(立教大学) ホスホニウム系イオン液体を導入した有機トランジスタにおけるドレイン電流の抑制効果:吉田 湧(奈良工業高等専門学校),三崎 雅裕(奈良工業高等専門学校),山田 裕久(奈良工業高等専門学校),綱島 克彦(和歌山工業高等専門学校) 植物栽培用光源を指向したペンタセン誘導体を有する深赤色電気化学発光素子の開発:岩崎 慈仁(法政大学),山口 紗羅(法政大学),笠原 崇史(法政大学) ドナー・アクセプター型蛍光色素を用いた電気化学発光素子の検討:山口 紗羅(法政大学),笠原 崇史(法政大学) ゲル浸透クロマトグラフィーを用いたSi 量子ドットの発光色制御:佐々木 翔汰(法政大学),中村 俊博(法政大学),越田 信義(東京農工大学) 液中レーザーアブレーションを用いたEu賦活ストロンチウムアルミネート蛍光体微粒子の作製:高嶋 優斗(法政大学),中村 俊博(法政大学)

PDFファイルサイズ：18,273Kバイト