Fe-Siエピタキシャル薄膜における磁化ダイナミクスに関する研究

カテゴリ：研究会(論文単位)

論文No：MAG25145

グループ名：【A】基礎・材料・共通部門 マグネティックス研究会

発行日：2025/12/1

タイトル(英語)：Fe-Siエピタキシャル薄膜における磁化ダイナミクスに関する研究

著者名：蒋 曄(東北大学),Semisalova Anna(デュイスブルク・エッセン大学),阿加 賽見(東北大学),室賀 翔(東北大学),Farle Michael(デュイスブルク・エッセン大学),遠藤 恭(東北大学)

著者名(英語)： Ye Jiang(Tohoku University),Anna Semisalova(University of Duisburg-Essen),Saijian Ajia(Tohoku University),Sho Muroga(Tohoku University),Michael Farle(University of Duisburg-Essen),Yasushi Endo(Tohoku University)

キーワード：磁化ダイナミクス,強磁性共鳴,強磁性共鳴線幅,Ｆｅ－Ｓｉ薄膜,エピタキシャル成長,Magnetization dynamics,Ferromagnetic resonance,Ferromagnetic resonance linewidth,Fe-Si films,Epitaxy

要約(日本語)：MgO(100)基板上にエピタキシャル成長させたFe100-xSix (9.0 <= x <= 16.1)薄膜の磁化ダイナミクスについて研究を行った。強磁性共鳴（FMR）測定により線幅の周波数依存性を評価したところ，すべての薄膜で約10 GHz付近にピークが確認された。この周波数応答挙動は，多結晶薄膜における線幅のほぼ線形的な周波数依存性とは異なる。これらの結果から，強い磁気異方性により磁化が外部磁界に遅れることで線幅が広がるためと.考えられ，異方性の強いエピタキシャル薄膜のダンピング定数評価ではドラッグ効果を考慮する必要があることが示唆された。

要約(英語)：We fabricated epitaxial Fe100-xSix (9.0 <= x <= 16.1) films on MgO (100) substrates. Their magnetization dynamics were investigated using a ferromagnetic resonance (FMR) measurement. In all films, the FMR linewidth exhibited a peak at approximately 10 GHz, indicating a nonmonotonic frequency dependence unlike the nearly linear behavior observed in polycrystalline films. This linewidth broadening may arise from the magnetization being partially dragged behind the external magnetic field due to strong magnetic anisotropy. Therefore, the magnetic drag effect should be taken into account when evaluating the damping constant in epitaxial films with strong anisotropy.

本誌：2025年12月4日-2025年12月5日マグネティックス研究会

本誌掲載ページ：5-8p

原稿種別：英語

PDFファイルサイズ：1,835Kバイト