はんだリフローを経ても高比抵抗な高周波ナノグラニュラー膜の検討

カテゴリ：研究会(論文単位)

論文No：MAG25154

グループ名：【A】基礎・材料・共通部門 マグネティックス研究会

発行日：2025/12/1

タイトル(英語)：はんだリフローを経ても高比抵抗な高周波ナノグラニュラー膜の検討

著者名：直江 正幸(電磁材料研究所),佐藤 光晴(電磁材料研究所),岩佐 忠義(電磁材料研究所),宗像 誠(崇城大学),高村 陽太(東京科学大学),中川 茂樹(東京科学大学),鈴木 一行(電磁材料研究所),小林 伸聖(電磁材料研究所)

著者名(英語)： Masayuki Naoe(Research Institute for Electromagnetic Materials),Mitsuharu Sato(Research Institute for Electromagnetic Materials),Tadayoshi Iwasa(Research Institute for Electromagnetic Materials),Makoto Munakata(Sojo University),Yota Takamura(Institute of Science Tokyo),Shigeki Nakagawa(Institute of Science Tokyo),Kazuyuki Suzuki(Research Institute for Electromagnetic Materials),Nobukiyo Kobayashi(Research Institute for Electromagnetic Materials)

キーワード：ナノグラニュラー膜,比抵抗,フッ化物,はんだリフロー,フラッシュアニール,カルーセルスパッタ,Nanogranular films,Electrical resistivity,Fluorides,Solder reflow process,Flash lamp annealing,Carousel sputtering

要約(日本語)：フッ化物をマトリックスとした強磁性ナノグラニュラー膜は、成膜状態では極めて高い比抵抗を呈するが、熱履歴を経るとそれが大幅に低下する。はんだリフロー温度の260℃は本膜の耐熱性にとって高い温度であることが判り、リフロー後にも実用に耐える比抵抗を保つ膜を得るための検討を、カルーセルスパッタを用いて行った。

要約(英語)：As-deposited ferromagnetic nanogranular films with fluoride matrixes exhibit high resistivity. However, significantly dropping of the resistivity through the thermal history as an outstanding problem for thermal stability of the films. The solder reflow temperature of 260°C was found to be high for the films. In order to obtain high-resistive films sufficient for practical use even after the reflow, the authors investigated how to solve this issue using the carousel sputtering method.

本誌：2025年12月4日-2025年12月5日マグネティックス研究会

本誌掲載ページ：45-50p

原稿種別：日本語

PDFファイルサイズ：1,443Kバイト