プラズマを用いたシリコン表面ナノ構造の形成と制御

カテゴリ: 部門大会

論文No: 20pm1-C1

グループ名: 第31回「センサ・マイクロマシンとその応用システム」シンポジウム論文集

発行日: 2014/10/14

タイトル(英語): Plasma Processes for Surface Nanofabrication of Silicon

著者名: 斧 高一(京都大学)

キーワード: プラズマエッチング,プラズマナノプロセス,トップダウンプロセス,ボットムアッププロセス,表面ラフネス

要約(日本語): プラズマを用いたシリコン表面のナノ構造形成と制御に関して，トップダウンおよびボットムアッププロセスの現状と課題，ならびに今後の展望について，表面リップル構造およびナノワイヤの形成に焦点をあて紹介する。さらに関連するプラズマ・表面相互作用の基礎的事項にも言及する。

要約(英語): Plasma processes for top-down and bottom-up surface nanofabrication of silicon are critically reviewed, along with the plasma-surface interactions underlying the processing achieved, where emphasis is placed on surface roughening and ripple formation and on nanowire fabrication.

PDFファイルサイズ: 862 Kバイト