吸引型プラズマエッチング装置によるマイクロ構造のマスクレス形成と評価

カテゴリ: 部門大会

論文No: 20pm3-PS013

グループ名: 第31回「センサ・マイクロマシンとその応用システム」シンポジウム論文集

発行日: 2014/10/14

タイトル(英語): Characterization of micro structures fabricated using a suction type plasma etching apparatus without using a mask

著者名: 西岡 泰城(日本大学),加藤木 真紀(三友製作所),諏郷 智久(日本大学),鈴木 達大(日本大学),高橋 賢(日本大学)

キーワード: 吸引プラズマ,プラズマエッチング,マスクレス,シリコン,バイオMEMS

要約(日本語): ガスの流れでプラズマを制御する吸引型プラズマエッチング装置を試作した。基板の位置決め・走査機構を取り入れることで、バイオMEMSの構成単位として有用な穴や溝といった構造をシリコン上にマスクレスで直接形成した。エッチング形状をコンフォーカルレーザー顕微鏡で測定し、平均値やその場所依存を比較することにより、本エッチング技術が良い再現性を示すことを確認した。

要約(英語): An inward plasma etching instrument has been demonstrated by directly patterning arrays of holes and streaks, which can be basic elements required of biological MEMS devices. Etching profiles are characterized with confocal laser microscopy. The results show the good reproducibility of this etching technique.

PDFファイルサイズ: 1,233 Kバイト