Pattern transfer technique on polymeric substrates using dry peel-off process for flexible electronic devices

カテゴリ: 部門大会

論文No: 20pm3-PS017

グループ名: 第31回「センサ・マイクロマシンとその応用システム」シンポジウム論文集

発行日: 2014/10/14

タイトル(英語): Pattern transfer technique on polymeric substrates using dry peel-off process for flexible electronic devices

著者名: 邊 益周(東京大学),水野 雄貴(東京大学),上野 遼平(東京大学),金 範埈(東京大学)

キーワード: 自己組織化単分子膜,ポリジメチルシロキサン,ポリイミド,3-メルカプトトリメトキシシラン

要約(日本語): シリコン基板上に形成した数ミクロン以下の微細金属パターンを柔軟性樹脂基板に剥離・転写させる新技術（自己組織化単分子膜、以下SAM,を用いて転写させる技術で、SAMナノトランスファー法、英語ではSAM dry peel-off processと名称する）を開発し、その再現性や信頼性を確立する。

要約(英語): The present research describes the development of direct transfer methods of metal micro-patterns to polymeric substrates. Any chemicals are not used to prevent the chemical contamination of polymeric substrates during the transfer process. Delicate modification of surfaces by self-assembled monolayers (SAMs) is essential for the successful transfer process. As a result, Au micro-patterns with linewidth of 1 μm were successfully transferred to polydimethylsiloxane (PDMS) or polyimide substrates.

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