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AN OPTIMIZATION TOOL FOR 3D LITHOGRAPHY UTILIZING DMD-BASED MASKLESS EXPOSURE SYSTEM

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カテゴリ: 部門大会

論文No: 20pm3-PS023

グループ名: 第31回「センサ・マイクロマシンとその応用システム」シンポジウム論文集

発行日: 2014/10/14

タイトル(英語): AN OPTIMIZATION TOOL FOR 3D LITHOGRAPHY UTILIZING DMD-BASED MASKLESS EXPOSURE SYSTEM

著者名: MA Xiaoxu (Kyoto University), Y. Kato(Kyoto University),Y. Hira(Kyoto University),F.V. Kempen(Delft University of Technology),F.V. Keulen(Delft University of Technology), T. Tsuchiya(Kyoto University),O. Tabata(Kyoto University)

キーワード: 3D Microstructuring,DMD maskless lithography,Optimization,Lithography simulation,Thick photoresist

要約(英語): A straightforward “input target-output parameters” computational optimization approach is presented for 3D microstructuring utilizing DMD optical lithography. This numerical optimization based on lithography simulation and sensitivity analysis can automatically optimize fabrication parameters for target 3D microstructure. Validity of the proposed approach has been successfully verified by experiments.

PDFファイルサイズ: 3,593 Kバイト

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