EUVリソグラフィー光源のためのグリット型波長選択フィルターの作製と評価結果

カテゴリ: 部門大会

論文No: 21am2-A4

グループ名: 第31回「センサ・マイクロマシンとその応用システム」シンポジウム論文集

発行日: 2014/10/14

タイトル(英語): Free-Standing Subwavelength Grid Infrared Filter of 90 mm Diameter for LPP EUV Light Source

著者名: 鈴木 裕輝夫(東北大学),戸津 健太郎(東北大学),森山 雅昭(東北大学),江刺 正喜(東北大学),田中 秀治(東北大学)

キーワード: 赤外線遮断フィルター,EUV露光,膜応力設計,グリット型波長選択フィルター

要約(日本語): EUVリソグラフィーのためのグリット型波長選択フィルターを作製し，EUV光源に搭載して評価を行った。直径90 mm，ハニカム状グリッド構造のフィルターは，グリット厚み5　?m，幅0.35　?m，ピッチ4.5　?mで6インチSiウェハ上に作製した。実用サイズのフィルターは，プロセス中の膜応力を設計することで作製が可能となった。波長10.6　?mの赤外線を99.7%遮断することを確認し，EUV光源に実装して実用性の評価を開始した。

要約(英語): A grid IR cut filter 90mm Φ　was fabricated and tested for an extreme ultraviolet light source. The filter is a free-standing molybdenum-coated silicon honeycomb structure with a thickness of 5μm, a width of 0.35μm, pitch of 4.5μm. The filter demonstrated 99.7% IR rejection. It was finally installed in an EUV light source and preliminary tested.

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