結晶異方性ウェットエッチング加工による マイクロピラミッド形状の表面微細構造の作製

カテゴリ: 部門大会

論文No: 21pm3-PS034

グループ名: 第31回「センサ・マイクロマシンとその応用システム」シンポジウム論文集

発行日: 2014/10/14

タイトル(英語): Fabrication of pyramid-shaped microstructure on the surface of single crystal silicon substrate by anisotropic etching

著者名: 石井 朋幸(九州工業大学),清水 正義(九州工業大学),村上直(九州工業大学),伊藤 高廣(九州工業大学)

キーワード: 結晶異方性エッチング,ウェットエッチング,表面微細構造,単結晶シリコン

要約(日本語): 結晶異方性ウェットエッチングでは、保護マスクパターンを表面に形成した状態の結晶性基板をエッチング液中に浸漬するだけで、基板の結晶方位と保護マスクパターンの組み合わせ、およびエッチング条件等に応じた3次元の表面微細構造を、その基板表面に作製可能である。適切な液組成に調整したエッチング溶液を用い、エッチング時間の制御により底面の一辺長さが3 μm程度のマイクロピラミッド形状の表面微細構造の作製に成功した。

要約(英語): Anisotropic wet etching is a useful processing method for the fabrication of three-dimensional microstructures on single crystal silicon (SCS) substrates. We can control the shapes of the etched microstructures and the surface condition by the combination of the etch mask patterns and the etching process conditions.

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