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還元基修飾インターカレータによる1本鎖/2本鎖DNA複合体の部位特異的金属被覆

還元基修飾インターカレータによる1本鎖/2本鎖DNA複合体の部位特異的金属被覆

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カテゴリ: 部門大会

論文No: 22am2-G1

グループ名: 第31回「センサ・マイクロマシンとその応用システム」シンポジウム論文集

発行日: 2014/10/14

タイトル(英語): Site-specific metallization of single-stranded and double-stranded DNA complexes using reducing group-labeled intercalators

著者名: 氷室 貴大(九州工業大学),佐藤 しのぶ(九州工業大学),竹中 繁織(九州工業大学),安田 隆(九州工業大学)

キーワード: ナノワイヤ,DNA,金属被覆,インターカレータ,還元基

要約(日本語): 本研究では,還元基を有するインターカレータを用いて1本鎖/2本鎖DNA複合体の2本鎖領域のみを部位特異的に金属被覆した.金属被覆操作後のDNAの外径測定をAFM観察により行ったところ,2本鎖部分のみ外径が増加しており,部位特異的な金属被覆が確認された.また,金属被覆操作前後の導電性を交流インピーダンス法により計測した結果,DNAのインピーダンスは金属被覆により減少し,その減少率は平均で約54 %を示した.

要約(英語): We developed a novel technique for site-specific metallization of DNA complexes consisting of single strands and double strands. The presence of metallized and non-metallized portions of the nanowire was confirmed using AFM observation. Moreover, we evaluated electrical properties of DNA nanowires which were electrostatically stretched and immobilized between two electrodes.

PDFファイルサイズ: 1,393 Kバイト

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