シリコン微細加工技術を用いた320umピッチの流路を有する 大気圧プラズマジェットアレイの製作と評価

カテゴリ: 部門大会

論文No: 22pm1-A6

グループ名: 第31回「センサ・マイクロマシンとその応用システム」シンポジウム論文集

発行日: 2014/10/14

タイトル(英語): Evaluation of the atmospheric pressure plasma jet array with 320um pitch channels fabricated by silicon micromachning technology

著者名: 武政 智史(香川大学),山崎 秀貴(香川大学),寺尾 京平(香川大学),鈴木 孝明(香川大学),下川 房男(香川大学),高尾 英邦(香川大学)

キーワード: 大気圧プラズマジェット,MEMS,マイクロ流体デバイス,アレイ,

要約(日本語): 近年，微小空間において高密度な大気圧マイクロプラズマ生成の研究が行われている。これまで我々は，MEMS技術を用いてアレイ化したPDMS微小流路内部で大気圧プラズマを独立制御して生成可能なデバイスの製作と評価を行い，2.54mmピッチでのプラズマアレイ生成を実現した。本研究では，シリコンの高精細な加工により，より高い空間解像度のプラズマジェットの形成とデバイスの長寿命化を目指したデバイスの製作とその評価を行った。

要約(英語): Recently, high density atmospheric micro plasma jet generation in the small space has been studied a lot. In this paper, using silicon microfabrication technology, we fabricated and evaluated the device which aim to generate high spatial resolution plasma jet, and to extend the permanence of the device.

PDFファイルサイズ: 1,133 Kバイト