ポリマーMEMSのプロセス設計

カテゴリ: 部門大会

論文No: 24pm2-E-3

グループ名: 第33回「センサ・マイクロマシンとその応用システム」シンポジウム論文集

発行日: 2016/10/17

タイトル(英語): Process Design for polymer MEMS

著者名: 鈴木 孝明(群馬大学、JSTさきがけ)

キーワード: レジストプロセス,フォトリソグラフィ,微細構造,厚膜フォトレジスト,アセンブリフリー加工

要約(日本語): 厚膜フォトレジストを用いたポリマーMEMSを含む一般的なMEMSを製作する場合のプロセス設計手法についてまとめ、各種形状・機能の製作に向けたデバイス構造と加工プロセスのシンプル化の重要性について検討する。さらに、MEMS製造技術のフレキシブル化・ハイスループット化を目的とし、複数の機能を集積化したマイクロシステムを単一マスクからアセンブリレスで作製する3次元UVリソグラフィ法と、その応用として、マイクロデバイスの製作例を紹介する。

要約(英語): Recently, complex performances and microstructures are required for microsystems with expanse of application fields. There is a limit in two-dimensional layer stacking method based on the conventional semiconductor manufacturing process because the processing process has been complicated with the processing microstructures. In this paper, a simple fabrication process using a three-dimensional UV lithography in combination with rotation and inclination of single mask is introduced.

PDFファイルサイズ: 255 Kバイト