二重凹角構造ピラーアレイを応用した超撥水性表面の低コスト量産プロセスの開発

カテゴリ: 部門大会

論文No: 25am2-PS-007

グループ名: 第33回「センサ・マイクロマシンとその応用システム」シンポジウム論文集

発行日: 2016/10/17

タイトル(英語): Development of low-cost mass production process of superrepellent surface using doubly reentrant structure pillar array

著者名: 中西 完貴(早稲田大学),簑城 森幸(早稲田大学),尹 棟鉉(早稲田大学),関口哲志(早稲田大学),庄子 習一(早稲田大学)

キーワード: 超撥水性表面,二重凹角構造,表面張力,モールド,接触角測定

要約(日本語): 近年、様々な分野で需要の増している超撥水性表面の低コスト・大量生産に向けた新しい作製プロセスを開発した。表面構造には現在最も撥水性が高い構造の一つである二重凹角構造を用いた。プロセスは主にキャスティングと基板への転写から成り、従来よりも非常に簡便である。基板材料にはガラスやシリコン、PDMSなどを選択できる。我々は、接触角測定により、提案したプロセスで作製した構造が高い撥水性を持つことを実証した。

要約(英語): A new fabrication process of a superrepellent surface using a doubly reentrant structure pillar array was developed. The proposed process applying a soft-lithography is simple, low-cost, and mass-productive process compared to the conventional process. It enables to fabricate a doubly reentrant structure pillar array on glass, silicon, and PDMS substrates.

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