Stepped Micro-trenches Fabricated by Deep Reactive Ion Etching and Soft Resist Masks Combined with UV Curing

カテゴリ: 部門大会

論文No: 25pm4-PS-006

グループ名: 第33回「センサ・マイクロマシンとその応用システム」シンポジウム論文集

発行日: 2016/10/17

タイトル(英語): Stepped Micro-trenches Fabricated by Deep Reactive Ion Etching and Soft Resist Masks Combined with UV Curing

著者名: Che-Wei Hsu(豊田工業大学),佐藤 龍仁(豊田工業大学),熊谷 慎也(豊田工業大学),佐々木 実(豊田工業大学)

PDFファイルサイズ: 689 Kバイト