青色半導体レーザーを用いたマルチスケール・マイクロ光造形装置の開発

カテゴリ: 部門大会

論文No: 25pm4-PS-012

グループ名: 第33回「センサ・マイクロマシンとその応用システム」シンポジウム論文集

発行日: 2016/10/17

タイトル(英語): Development of a microstereolithography system using a 405 nm diode laser

著者名: 永瀬 史憲(横浜国立大学),谷口周平(横浜国立大学),三田 正弘(協同インターナショナル),丸尾 昭二(横浜国立大学)

キーワード: マイクロ光造形,1光子光重合,3次元構造体,マルチスケール造形,ナノインプリント

要約(日本語): 本研究では，廉価で小型な青色半導体レーザーを用いて，高精細･大面積造形を両立したマルチスケール・マイクロ光造形装置を開発した．本装置では，開口数の異なる対物レンズを用いることで，硬化線幅とレーザー光の走査範囲を変化させ，マイクロからミリスケールの3D構造体を造形する．実際に，数10 μmの3D構造体，ナノインプリント基板への付加加工，数mmの3D構造体を作製し，本装置におけるマルチスケールな3D造形を実証した．

要約(英語): In this study, a multi-scale microstereolithography system using a low-cost, blue diode laser has been developed. It can provide wide-range resolution with a high and low numerical aperture objective lens by using the unique property of single-photon polymerization. So that, three-dimensional structures from micrometer to millimeter order were successfully fabricated.

PDFファイルサイズ: 671 Kバイト