超並列電子線描画装置における電子光学系の小型化の検討

カテゴリ: 部門大会

論文No: 25pm4-PS-018

グループ名: 第33回「センサ・マイクロマシンとその応用システム」シンポジウム論文集

発行日: 2016/10/17

タイトル(英語): Examination of the Miniaturized Electron Optics for Massively Parallel Electron Beam Direct Write System

著者名: 小島 明(東北大学),池上 尚克(東北大学),宮口 裕(東北大学),吉田 孝(東北大学),吉田 慎哉(東北大学),室山 真徳(東北大学),戸津 健太郎(東北大学),越田 信義(東京農工大学),江刺 正喜(東北大学)

キーワード: 超並列電子線リソグラフィ,対物レンズ,電子光学,ナノシリコン

要約(日本語): 超並列電子線描画装置のさらなる高スループット化を目標としたマルチカラム＋マルチビームシステムのコンセプトを示した。現状のMPEBDWシステムのカラムサイズは比較的大きくマルチカラム化を難しくしている。本研究では解像度を劣化させることなくカラムサイズを小さくするための対物レンズの小型化設計について数値解析による検討を行い、シングルナノメータオーダーの並列電子ビーム描画が可能であることを示した。

要約(英語): This paper reports a study of a miniaturized electron optics for the massive parallel electron beam direct-write (MPEBDW) of multi-column & multi-beam system. The simulation results showed that the miniaturizing the electron optics without degradations of the beam quality provides single nanometer size beams.

PDFファイルサイズ: 1,024 Kバイト