17×17並列電子線露光システムの開発

カテゴリ: 部門大会

論文No: 28am2-A-5

グループ名: 第32回「センサ・マイクロマシンとその応用システム」シンポジウム論文集

発行日: 2015/10/21

タイトル(英語): Development of a 17×17 Parallel Electron Beam Lithography System

著者名: 宮口 裕*，室山 真徳，吉田 慎哉，池上 尚克，小島 明，田中 秀治，江刺 正喜(東北大学)

キーワード: 並列電子線描画,nc-Si,縮小露光,収差補正

要約(英語): The 17×17 parallel electron beam lithography system has been implemented and evaluated to clarify its system problems and to accelerate a 100×100 massive parallel electron beam direct draw system under development. This paper describes its system concept, an electron emitter driver circuit, its control system and an exposure result.

PDFファイルサイズ: 2,540 Kバイト