RFマグネトロンスパッタ法によるPb(Zr,Ti)O3薄膜の多層積層とその評価
RFマグネトロンスパッタ法によるPb(Zr,Ti)O3薄膜の多層積層とその評価
カテゴリ: 部門大会
論文No: 28am2-A-6
グループ名: 第32回「センサ・マイクロマシンとその応用システム」シンポジウム論文集
発行日: 2015/10/21
タイトル(英語): Sputtering Deposition and Evaluation of Multilayer Pb(Zr,Ti)O3 Thin Film Structure for MEMS Applications
著者名: 佐野 良*,井上純一,神田 健介,藤田 孝之,前中 一介(兵庫県立大学)
キーワード: PZT薄膜,多層,MEMS,スパッタリング
要約(英語): This study investigates the fabrication of multilayer Pb(Zr, Ti)O3 thin film structure using sputtering deposition. 4 layers cantilever was fabricated and was revealed a four-fold displacement per voltage compared with single layer actuations. Furthermore, 6 layers of PZT with good ferroelectricity were successfully sputtered. From measurements, it was indicated that adhesion of 6-layers PZT with the substrate was the key factor for further multi-layer sputtering.
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