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RFマグネトロンスパッタ法によるPb(Zr,Ti)O3薄膜の多層積層とその評価

RFマグネトロンスパッタ法によるPb(Zr,Ti)O3薄膜の多層積層とその評価

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カテゴリ: 部門大会

論文No: 28am2-A-6

グループ名: 第32回「センサ・マイクロマシンとその応用システム」シンポジウム論文集

発行日: 2015/10/21

タイトル(英語): Sputtering Deposition and Evaluation of Multilayer Pb(Zr,Ti)O3 Thin Film Structure for MEMS Applications

著者名: 佐野 良*,井上純一,神田 健介,藤田 孝之,前中 一介(兵庫県立大学)

キーワード: PZT薄膜,多層,MEMS,スパッタリング

要約(英語): This study investigates the fabrication of multilayer Pb(Zr, Ti)O3 thin film structure using sputtering deposition. 4 layers cantilever was fabricated and was revealed a four-fold displacement per voltage compared with single layer actuations. Furthermore, 6 layers of PZT with good ferroelectricity were successfully sputtered. From measurements, it was indicated that adhesion of 6-layers PZT with the substrate was the key factor for further multi-layer sputtering.

PDFファイルサイズ: 4,070 Kバイト

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