超並列電子線描画装置用nc-Si（ナノシリコン）面電子源のための MEMS静電コンデンサレンズアレイの開発

カテゴリ: 部門大会

論文No: 28pm3-B-2

グループ名: 第32回「センサ・マイクロマシンとその応用システム」シンポジウム論文集

発行日: 2015/10/21

タイトル(英語): Development of MEMS condenser lens array for nc-Si (nanocrystalline silicon) surface electron emitter for massively parallel electron beam system

著者名: 小島 明*{1}，池上 尚克{1}，宮口 裕{1}，吉田 慎哉{1}，室山 真徳{1}，戸津 健太郎{1}，越田 信義{2}，江刺 正喜{1}({1}東北大学，{2}東京農工大学)

キーワード: 超並列,電子線描画,コンデンサレンズアレイ,電子光学,nc-Si

要約(英語): Developments of a MEMS electrostatic condenser lens array for the massive parallel electron beam direct-write system are reported. Characteristics of the electron optics are analyzed by a finite element method simulation. The condenser lens array was fabricated with precise machining methods.

PDFファイルサイズ: 1,556 Kバイト