高濃度不純物ドープシリコンの高温引張試験

カテゴリ: 部門大会

論文No: 29pm3-PS-015

グループ名: 第32回「センサ・マイクロマシンとその応用システム」シンポジウム論文集

発行日: 2015/10/21

タイトル(英語): Tensile testing for heavily-doped silicon at high temperature

著者名: 太田 一輝*，安藤 妙子(立命館大学)

キーワード: シリコン,引張試験,不純物,高温,応力ｰひずみ線図

要約(英語): B doped silicon and B and Ge co-doped silicon in microscale evaluated by using tensile test and at 600℃ and 700℃. We report the plastic deformation and serration-like behavior of single crystal silicon at high temperature by tensile test and SEM observation.

PDFファイルサイズ: 934 Kバイト