環境負荷を考慮した不活性ガスによるメタルドライエッチング法とその応用

カテゴリ: 部門大会

論文No: 29pm3-PS-009

グループ名: 第32回「センサ・マイクロマシンとその応用システム」シンポジウム論文集

発行日: 2015/10/21

タイトル(英語): Inert gas metal etching for reducing environmental load and its application

著者名: 濱 治慶*{1}，藤原 哲嗣{2}，下川 房男{1}，小寺 秀俊{3}，迚野 泰一{2}，鈴木 孝明{4}({1}香川大学，{2}造幣局，{3}京都大学，{4}群馬大学)

キーワード: 不活性ガス,ECRイオンビームエッチング,真空UVキュア法

要約(英語): In this study, we evaluated a metal patterning method by using the ECR (Electron Cyclotron Resonance) ion beam etching with inert gas for reducing environmental load. The ion etching with the inert gas has lower etching selectivity than the reactive dry etching with chlorine-based gas. So, we increase the etching selectivity by 45% by using the photoresist treated by vacuum UV cure method and controlling etching parameter.

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