金属薄膜を用いた異種材料同時エッチングによる極微細ガラス構造の作製手法

カテゴリ: 部門大会

論文No: 30am2-PS-008

グループ名: 第32回「センサ・マイクロマシンとその応用システム」シンポジウム論文集

発行日: 2015/10/21

タイトル(英語): Fabrication method of glass tapered nanopillars by simultaneously etching of dissimilar materials using metal mask layer

著者名: 須藤 健成*{1}，桑江 博之{1}，岡田 愛姫子{1}，笠原 崇史{1}，高山 公介{2}，海田 由里子{2}，庄子 習一{1}，水野 潤{1}({1}早稲田大学，{2}旭硝子)

キーワード: ガラス,微細円錐構造,ドライエッチング,Au/Tiメタルマスク,自己洗浄機能

要約(英語): We proposed a novel approach for simple fabrication of the silica tapered nanopillars. The silica tapered nanopillars with aspect ratio larger than 5 was successfully fabricated using photolithography and dry etching through Au/Ti mask.The fabricated surface topography exhibited remarkable superhydrophilic properties with a water contact-angle of less than 5°.

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