ミニマル装置を用いたオールインワンプロセスでのPZT薄膜形成

カテゴリ: 部門大会

論文No: 30pm1-B-3

グループ名: 第32回「センサ・マイクロマシンとその応用システム」シンポジウム論文集

発行日: 2015/10/21

タイトル(英語): PZT films formation using all-in-one process by Minimal PZT Sol-Gel Station

著者名: 数佐 純子*{1}，古賀 和博{2}，梅山 規男{2}，野田 大二{3}，クンプアン ソマワン{2}，原 史朗{2}({1}ミニマルファブ技術研究組合，{2}産業技術総合研究所，{3}マイクロマシンセンター)

キーワード: PZT,ゾルゲル法,ミニマル,レーザー加熱,昇温速度

要約(英語): A recently developed PZT sol-gel deposition machine for minimal fab is employed to form a PZT film with various temperature ramping rates.Laser Annealing with a high ramping rate of 60 °C/sec in a crystallization process, a PZT (100) film is formed. In contrast, with a low ramping rate of 1.7 °C/sec, a PZT (111) film is formed.

PDFファイルサイズ: 1,081 Kバイト