真空紫外光によるSAMエッチングを利用した細胞パターニング

カテゴリ: 部門大会

論文No: 31am3-PS-89

グループ名: 第34回「センサ・マイクロマシンとその応用システム」シンポジウム論文集

発行日: 2017/10/24

タイトル(英語): Cell Patterning Using SAM Etching with Vacuum Ultraviolet Light

著者名: 森迫 勇(九州工業大学),善明 祐介(九州工業大学),安田 隆(九州工業大学)

著者名(英語): Isamu Morisako| Yusuke Zenmyo |Takashi Yasuda

キーワード: 細胞パターニング,自己組織化単分子膜,SAM,真空紫外光,窒化シリコン

要約(日本語): 窒化シリコン膜表面に細胞非接着性の自己組織化単分子膜ODS-SAMを形成した後に、石英マスクを介して真空紫外光を照射することでこれを部分的にエッチングした。このエッチング面に細胞接着性の自己組織化単分子膜AHAPS-SAMを形成し、2種類のSAMから成るパターン面を形成した。この面上にCaco-2細胞を播種したところ、AHAPS-SAM面のみに細胞が接着し、細胞パターンが形成された。

要約(英語): A non-cell-adhesive ODS-SAM (self-assembled monolayer) was formed on a SiN membrane surface and patterned by partial etching with irradiation of vacuum ultraviolet light. After that, a cell-adhesive AHAPS-SAM was formed on the surface where the ODS-SAM was etched. The patterned SAMs permitted Caco-2 cell patterning.

PDFファイルサイズ: 470 Kバイト