イオン注入法を用いた酸窒化薄膜の作製と評価

カテゴリ: 部門大会

論文No: IX-8

グループ名: 【A】平成17年電気学会基礎・材料・共通部門大会講演論文集

発行日: 2005/08/22

著者名: 瀬山賢太郎 (芝浦工業大学),望月美穂 (芝浦工業大学),斉藤正敏 (芝浦工業大学),須藤麻子 (芝浦工業大学),米井健治 (芝浦工業大学)

キーワード: SiON|ゲート絶縁膜

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