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HMDSのCVD法による3C-SiC薄膜の作製と評価
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カテゴリ: 部門大会
論文No: IX-9
グループ名: 【A】平成17年電気学会基礎・材料・共通部門大会講演論文集
発行日: 2005/08/22
著者名: 本田昌宏 (芝浦工業大学),大河原政紀 (芝浦工業大学),米井健治 (芝浦工業大学)
キーワード: SiC|次世代半導体|HMDS
PDFファイルサイズ: 428 Kバイト
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