商品情報にスキップ
1 1

HMDSのCVD法による3C-SiC薄膜の作製と評価

HMDSのCVD法による3C-SiC薄膜の作製と評価

通常価格 ¥440 JPY
通常価格 セール価格 ¥440 JPY
セール 売り切れ
税込

カテゴリ: 部門大会

論文No: IX-9

グループ名: 【A】平成17年電気学会基礎・材料・共通部門大会講演論文集

発行日: 2005/08/22

著者名: 本田昌宏 (芝浦工業大学),大河原政紀 (芝浦工業大学),米井健治 (芝浦工業大学)

キーワード: SiC|次世代半導体|HMDS

PDFファイルサイズ: 428 Kバイト

販売タイプ
書籍サイズ
ページ数
詳細を表示する