表面を加工したNiFe細線構造の磁気抵抗効果

カテゴリ: 部門大会

論文No: P-21

グループ名: 【A】平成17年電気学会基礎・材料・共通部門大会講演論文集

発行日: 2005/08/22

著者名: 長谷川俊祐 (横浜国立大学),渡邉源太 (横浜国立大学),山田努 (横浜国立大学),竹村泰司 (横浜国立大学),白樫淳一 (東京農工大学)

キーワード: 磁性薄膜|磁気抵抗効果|磁区構造

PDFファイルサイズ: 895 Kバイト