SPMスクラッチナノ加工による強磁性細線の狭窄化

カテゴリ: 部門大会

論文No: P-11

グループ名: 【A】平成20年電気学会基礎・材料・共通部門大会講演論文集

発行日: 2008/08/21

著者名: 蒋京みん (横浜国立大学),高橋和大 (横浜国立大学),山田努 (横浜国立大学),白樫淳一 (東京農工大学),竹村泰司 (横浜国立大学)

キーワード: 原子間力顕微鏡| ナノリソグラフィ| 磁気抵抗効果

PDFファイルサイズ: 820 Kバイト