C8F18プラズマCVDによる非晶質フッ化炭素低誘電率絶縁膜の波状構造積層堆積

カテゴリ: 部門大会

論文No: O-12-II

グループ名: 【A】平成21年電気学会基礎・材料・共通部門大会講演論文集

発行日: 2009/09/10

著者名: 水野巧一朗 (北海道大学),菅原広剛 (北海道大学),村山明宏 (北海道大学)

キーワード: プラズマCVD| 低誘電率膜| 層間絶縁膜| 波状堆積| フッ化炭素膜

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