フェライトめっき膜の高抵抗化と伝導ノイズ抑制体への応用

カテゴリ: 部門大会

論文No: VIII-7

グループ名: 【A】平成22年電気学会基礎・材料・共通部門大会講演論文集

発行日: 2010/09/13

著者名: 松下伸広 (東京工業大学),竹内有沙子 (東京工業大学),阿部正紀 (東京工業大学),岡田清 (東京工業大学)

キーワード: フェライト膜| フェライトめっき法| 伝導ノイズ抑制体| 高抵抗化| 透過損失

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