ICP型アンバランスマグネトロンスパッタ法により作製したNi薄膜に及ぼす磁場と基板バイアス電圧の効果

カテゴリ: 部門大会

論文No: P-36

グループ名: 【A】平成22年電気学会基礎・材料・共通部門大会講演論文集

発行日: 2010/09/13

著者名: 大谷和輝 (広島工業大学),森重史也 (広島工業大学),平野意峰 (広島工業大学),尾崎徹 (広島工業大学),川畑敬志 (広島工業大学),岡本圭司 (トーヨーエイテック)

キーワード: スパッタ法| ニッケル薄膜| プラズマ| ICP| 表面形状| AFM

PDFファイルサイズ: 1,302 Kバイト