常磁性材料を用いたマルチフェロイック・フォトニック結晶の作成

カテゴリ: 部門大会

論文No: I-2

グループ名: 【A】平成23年電気学会基礎・材料・共通部門大会講演論文集

発行日: 2011/09/21

著者名: 高木宏幸 (豊橋技術科学大学),磯谷亮介 (豊橋技術科学大学),後藤太一 (豊橋技術科学大学),井上光輝 (豊橋技術科学大学)

キーワード: 磁気光学効果| 電気光学効果| 磁性フォトニック結晶| マルチフェロイック| 位相変調器

要約(日本語): 磁気光学膜（MO膜）と電気光学膜（EO膜）をハイブリッド化し，これをマイクロキャビティの欠陥層とするマルチフェロイック・フォトニック結晶の研究を行った．本構造は，EO膜の屈折率変化で，MO膜内の光の局在を制御できる．MO膜は，磁化を制御する必要がなくなり，常磁性材料を使う事ができる．この結果，使用できる波長域が全可視光域となる．本研究では，理論計算による構造設計と同構造の形成について報告する．

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