RFマグネトロンスパッタリング法によるTi-N系薄膜における諸物性

カテゴリ: 部門大会

論文No: III-2

グループ名: 【A】平成23年電気学会基礎・材料・共通部門大会講演論文集

発行日: 2011/09/21

著者名: 樫澤俊介 (日本大学),新妻清純 (日本大学),移川欣男 (日本大学)

要約(日本語): TiNの融点は高く,金に類似した色彩を有し,金属的特性を示し,硬度も高く,化学的安定性を備えているなど,機械的に優れた特性を有している。そこで,本研究では,種々の成膜条件による,Ti-N系薄膜の創製を試み,特にTi-N系薄膜における結晶構造,電気的性質,ならびに,光触媒活性に及ぼす効果を明確にすることを目的とした。

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