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直接接着法を用いたデュアルキャビティ磁性フォトニック結晶の作製
直接接着法を用いたデュアルキャビティ磁性フォトニック結晶の作製
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カテゴリ: 部門大会
論文No: IV-1
グループ名: 【A】平成23年電気学会基礎・材料・共通部門大会講演論文集
発行日: 2011/09/21
著者名: 芳賀洋二 (豊橋技術科学大学),後藤太一 (豊橋技術科学大学),BaryshevAlexander (豊橋技術科学大学),井上光輝 (豊橋技術科学大学)
キーワード: デュアルキャビティ| 磁性フォトニック結晶| 磁性薄膜| 直接接着| 表面活性化| 磁気光学効果
要約(日本語): 薄膜光アイソレータなどへの応用が期待されるデュアルキャビティ磁性フォトニック結晶の実現のために、直接接着を用いた作製法を検討した。この方法では構造の対象性が得られ、比較的容易にデュアルキャビティ磁性フォトニック結晶の特性が得られることが期待される。本稿では接着法を用いて作製したデュアルキャビティ磁性フォトニック結晶の諸特性について報告する。
PDFファイルサイズ: 795 Kバイト
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