大気圧直流放電におけるOHラジカル分布計測

カテゴリ: 部門大会

論文No: XI-7

グループ名: 【A】平成23年電気学会基礎・材料・共通部門大会講演論文集

発行日: 2011/09/21

著者名: 安藤瑞基 (東京工業大学),安間良祐 (東京工業大学),竹内希 (東京工業大学),安岡康一 (東京工業大学)

キーワード: 大気圧直流放電| 酸素雰囲気| OHラジカル| 水蒸気量| 二次元分布

要約(日本語): 大気圧酸素雰囲気で針対水面電極に直流高電圧を印加し，電流値を一定に制御して直流放電を発生させた。分光による放電のスペクトル測定と，310 nmバンドパスフィルタを装着したICCDカメラによる放電撮影によりOHラジカルの二次元分布を観察した。特に，供給する酸素を乾燥・加湿状態で変化させたときのOHラジカル分布・発光強度の違いを観察することで，放電領域中の水蒸気がOHラジカル生成に与える影響について実験的に検討した。

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