NLDプラズマの解析(XV)?分界線制御時のイオン生成と基板射突量均一化の評価?

カテゴリ: 部門大会

論文No: XI-10

グループ名: 【A】平成23年電気学会基礎・材料・共通部門大会講演論文集

発行日: 2011/09/21

著者名: 吉田拓平 (北海道大学),櫻井洋平 (北海道大学),菅原広剛 (北海道大学),村山明宏 (北海道大学)

キーワード: モンテカルロ法| イオン生成| 均一エッチング| 分界線

要約(日本語): コイルの磁界でプラズマ空間分布の動的制御が可能な磁気中性線放電（NLD）プラズマを用いた大面積均一エッチングを目指し、分界線（磁力線の流れが変わる境界）によるイオン誘導をコイル電流で制御してイオンの基板射突量均一化を試みた。イオン生成量はRFアンテナが作る電界強度より磁界勾配に敏感であった。イオン射突量は分界線の足の基板上滞在時間の重み付けにより、その掃引範囲でσ＝1.1％の均一性を得た。

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