窒素イオン照射を用いたPTFEの接着力向上?接着力向上に寄与する架橋層の形成深さ?

カテゴリ: 部門大会

論文No: XIV-2

グループ名: 【A】平成23年電気学会基礎・材料・共通部門大会講演論文集

発行日: 2011/09/21

著者名: 渡辺剛志 (東京都市大学),岩尾徹 (東京都市大学),湯本雅恵 (東京都市大学)

キーワード: PTFE| イオン照射| 接着力| 架橋構造| イオンエネルギー

要約(日本語): PTFEは優れた特性をもつが低接着性の為，多くの表面改質に関する報告がある。しかし，PTFEは崩壊型高分子である為，接着力は十分に向上しないのが実情である。そこで，著者らはエネルギーの低いイオンで極性基を導入し，高いイオンで架橋層を形成させる処理を行なったところ接着力の向上を確認した。その際，架橋層の形成される深さが接着力の向上に寄与していると考えられる為，イオンエネルギーを変化させた場合の結果を報告する。

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