イオン照射を用いたPMMAの表面改質‐硬度向上における架橋構造の形成深さの寄与‐

カテゴリ: 部門大会

論文No: XIV-4

グループ名: 【A】平成23年電気学会基礎・材料・共通部門大会講演論文集

発行日: 2011/09/21

著者名: 横山純也 (東京都市大学),岩尾徹 (東京都市大学),湯本雅恵 (東京都市大学)

キーワード: PMMA| 表面改質| 架橋構造| 表面硬度向上| イオン照射| XPS

要約(日本語): 光学特性に優れた高分子材料であるPMMAは欠点として表面硬度が低いことが挙げられる。そこで, 窒素イオンの照射により表面改質を行った。これまで，イオン照射時の加速電圧を高くすることで，より硬度が向上する事が確認できている。これは，投影飛程が長くなることで架橋層が厚くなった為と考えられる。しかし，架橋構造がどの様に形成されているか確認できていない。そこで，深さ方向の架橋構造の分布を測定した結果をまとめる。

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