ArおよびO2雰囲気での水上パルス放電におけるフェノール分解過程

カテゴリ: 部門大会

論文No: XVI-2

グループ名: 【A】平成23年電気学会基礎・材料・共通部門大会講演論文集

発行日: 2011/09/21

著者名: 塩田晴基 (室蘭工業大学),板橋秀幸 (室蘭工業大学),佐藤孝紀 (室蘭工業大学),伊藤秀範 (室蘭工業大学)

キーワード: 汚染水浄化| パルス放電| フェノール水溶液| 分解過程| ガスクロマトグラフィー質量分析法

要約(日本語): 　ArおよびO2雰囲気における水上パルス放電によりフェノールを分解したときの分解生成物を調査し，その結果から分解過程を検討した。Ar雰囲気ではカテコール，ヒドロキノン，ベンゾキノンおよび4-ヒドロキシ-2-シクロヘキセン-1-オンが生成され，O2雰囲気ではAr雰囲気における分解生成物の他にギ酸，マレイン酸，こはく酸および4,6-ジヒドロキシ-2,4-ヘキサジエン酸が生成されることがわかった。

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