真空中インパルスコンディショニング過程におけるCu-Cr微細分散層の形成に関する検討

カテゴリ: 部門大会

論文No: XVI-12

グループ名: 【A】平成23年電気学会基礎・材料・共通部門大会講演論文集

発行日: 2011/09/21

著者名: 西村亮岐 (名古屋大学),小島寛樹 (名古屋大学),早川直樹 (名古屋大学),佐藤裕昌 (日本AEパワーシステムズ),斉藤仁 (日本AEパワーシステムズ),野田泰司 (日本AEパワーシステムズ),大久保仁 (名古屋大学)

キーワード: コンディショニング| Cu-Cr| 微細分散層| 真空| 真空バルブ

要約(日本語): インパルスコンディショニングは真空バルブの高電圧化のために有効な手段とされている．特に真空バルブのコンタクト部分に用いられるCu-Cr電極において，コンディショニング後に電極表面に形成されるCu-Cr微細分散層が耐電圧向上に貢献しているという報告がなされており，微細分散層形成過程について検討することが重要である．本論文において，微細分散層形成には絶縁破壊電圧が大きく影響していることを明らかにしたため報告する．

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