誘導結合プラズマ支援型アンバランスマグネトロンスパッタ法により作製したNi薄膜構造への磁場効果

カテゴリ: 部門大会

論文No: P-31

グループ名: 【A】平成23年電気学会基礎・材料・共通部門大会講演論文集

発行日: 2011/09/21

著者名: 大谷和輝 (広島工業大学),坂田直文 (広島工業大学),尾崎徹 (広島工業大学),川畑敬志 (広島工業大学)

キーワード: スパッタ法| ニッケル薄膜| プラズマ| 表面形状| AFM

要約(日本語): Ni薄膜を基板温度(Ts)と基板方向に向かう垂直磁束密度(Bc)を制御しながら、誘導結合プラズマ支援型アンバランスマグネトロンスパッタ法によりガラス基板上に作製した。TsとBcにより表面拡散を促した結果、Ts＝300℃でBc=0 mTの条件で作製した場合と基板を加熱せず、Bc=3 mT，Bc=5 mTを印加した場合の平均表面粒径の大きさがほぼ等しくなることがわかった。同じ絶縁体である紙基板上へ成膜する場合、磁場の印加は有効性があると考えられる。

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