小型ペニング型パルススパッタグロープラズマ源におけるイオン電流の圧力特性

カテゴリ: 部門大会

論文No: XVII-11

グループ名: 【A】平成24年電気学会基礎・材料・共通部門大会講演論文集

発行日: 2012/09/20

著者名: 樋口徹 (兵庫県立大学),井上祐輔 (兵庫県立大学),東欣吾 (兵庫県立大学)

キーワード: ハイパワーパルススパッタ| ペニング放電| グロー放電| プラズマプロセス| イオン化率| 金属イオンプラズマ

要約(日本語): ハイパワーパルススパッタ(High Power Pulse Sputter,HPPS)プラズマ源は豊富な金属を含むグロープラズマを生成し、DC(直流)やパルスDCスパッタよりも高い金属のイオン化率を実現する。金属粒子のイオン化はプラズマ中の電子やガス粒子と、金属粒子の衝突過程によって起こる。本報告では、数Paから20Pa程度の真空下における、金属イオン電流の圧力特性について報告する。

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