イオンビームアシスト法によりDLCコーティングしたジュラルミン基盤の特性

カテゴリ: 部門大会

論文No: P-12

グループ名: 【A】平成24年電気学会基礎・材料・共通部門大会講演論文集

発行日: 2012/09/20

著者名: 高村祐哉 (工学院大学),鷹野一朗 (工学院大学)

キーワード: ジュラルミン| DLC薄膜| イオンビームアシスト法

要約(日本語): ジュラルミン（A2017）は軽量であり切削加工性をもつので、省エネルギーを目的とした軽量化のために産業界で幅広く利用されている。しかし、耐食性及び耐摩耗性に劣るという欠点があった。本研究ではイオンビームアシスト法により加速電圧5kV一定とし、炭素源にC2H4及びC7H8を用いてHe+イオン照射電流密度を変化させDLC薄膜の作成により耐食性、耐摩耗性の向上を図った。結果、C7H8を用い20μA/cm2の電流密度で耐摩耗性の向上が見られた。

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