窒素イオン照射を用いたPTFEの接着力向上－極性基と凹凸による接着力への寄与－

カテゴリ: 部門大会

論文No: P-24

グループ名: 【A】平成24年電気学会基礎・材料・共通部門大会講演論文集

発行日: 2012/09/20

著者名: 長坂勇輔 (東京都市大学),岩尾徹 (東京都市大学),湯本雅恵 (東京都市大学)

キーワード: PTFE| プラズマ| 極性基| イオン照射| 凹凸| 接着力

要約(日本語): プリント基板材料として，低誘電率など優れた特性を持つPTFE(PolyTetraFluoroEthylene)が注目されている。しかしPTFEは接着力が乏しく表面改質が必要となる。接着力は極性基の導入と凹凸の形成により，表面エネルギーを高くすることで向上する。低気圧中で発生させた窒素イオンを低エネルギー・高エネルギー連続で照射する方法を用いたところ，接着力が大幅に向上した。そこで接着の要因と考えられる極性基と凹凸が接着力にどのように寄与するのかを検討した。

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